微機(jī)控制等離子噴涂設(shè)備

            微機(jī)控制等離子噴涂設(shè)備該文在原有實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)之上完成了對(duì)等離子噴涂控制系統(tǒng)的調(diào)試工作,并且對(duì)原來主電路中不盡之處進(jìn)行了改進(jìn).系統(tǒng)采用可編程控制器作為中心控制單元,自動(dòng)化程度高,實(shí)現(xiàn)了對(duì)等離子噴涂系統(tǒng)的自動(dòng)控制.根據(jù)等離子弧噴涂的工作流程圖,設(shè)計(jì)并編制了控制系統(tǒng)的工作程序,并實(shí)際進(jìn)行了現(xiàn)場調(diào)試,符合工藝要求,運(yùn)行良好.為了實(shí)現(xiàn)大功率的工況要求,我們選用四臺(tái)同型號(hào)的硅整流直流電源串并聯(lián)在一起使用,完成了對(duì)四臺(tái)電源的改裝調(diào)試工作,并利用CF2B-2A半控橋可控硅觸發(fā)器及輔助電路對(duì)串并聯(lián)在一起的四臺(tái)電源控制線圈的電流進(jìn)行控制,達(dá)到四臺(tái)電源同步輸出的目的,并且實(shí)現(xiàn)了等離子弧噴涂引弧時(shí)電流遞增和熄弧時(shí)電流衰減的調(diào)解過程.采用四臺(tái)同型號(hào)的硅整流直流電源串并聯(lián)后使用,工作穩(wěn)定,功率達(dá)到了噴涂的要求.在原有設(shè)計(jì)基礎(chǔ)之上,對(duì)原有槍體結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)進(jìn)行改進(jìn),對(duì)原有設(shè)計(jì)在實(shí)際加工條件下不合理的地方進(jìn)行了改動(dòng),并繪制了機(jī)加工圖紙,標(biāo)注了加工精度及實(shí)際尺寸,完成了噴涂槍的制造,并在實(shí)際中進(jìn)行了調(diào)試.噴槍的水路,氣路和結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理,電極的固定和調(diào)節(jié)方式方便實(shí)用,噴嘴冷卻效果良好,符合工況要求.采用高頻電源與工作主回路串連的方式,有效地避免了高頻竄入控制系統(tǒng)的嚴(yán)重危害,同時(shí)采用遠(yuǎn)離與屏蔽的方法防止了高頻對(duì)PLC工作程序的干擾問題.對(duì)影響噴涂工藝參數(shù)的因素